陈红 马萱怡 刘承灵 刘倩

利用种植体支抗来实现磨牙远移，其植入部位大体为上腭部，颧牙槽嵴区以及上颌第一磨牙与第二前磨牙牙根之间。早在2003年，就有学者[1]将种植支抗植入上腭部，将横腭杆与种植体连为一个整体来实现上颌磨牙远移，效果显著，且无明显支抗丢失；后来有报道[2]利用颧牙槽嵴骨量大，骨密度高等优势，将微钛板植入该区进行上颌牙列远移，虽然取得了明显的治疗效果，但也存在异物感强，创伤较大等劣势，继而有学者[3]提出将种植钉植入颧牙槽嵴来实现治疗目标。然而颧牙槽嵴区特殊的解剖特征，使得种植体支抗所产生力的水平向分力略有不足。本研究将微种植体支抗(micro-implanted anchorage,MIA)植入上颌第一磨牙(M1)与第二磨牙(P2)牙根间，评估在距离釉牙骨质界(cemento-enamel junction,CEJ)不同高度、同时与P2长轴呈不同角度植入后，MIA的稳定性以及其用于磨牙远移的可行性，为临床工作提供参考。

1 材料与方法

1.1 研究对象

收集2019 年来甘肃省人民医院口腔正畸科就诊的初诊患者的CBCT影像资料，从中筛选出30 例作为实验样本，所有影像资料均由法国锐柯Kodak 9500 Cone Beam 3D System扫描获得(管电压90 kV，管电流10 mA，扫描时间10.8 s)。纳入标准：(1)恒牙列期；(2)上颌第二磨牙已萌出并建立正常咬合关系；(3)上颌双侧后牙段无拥挤、无散在间隙、无扭转牙齿、无充填牙齿、无缺失和埋伏牙齿(第三磨牙除外)、无义齿修复；(4)牙周健康；(5)上颌双侧后牙段各个牙齿牙根无弯曲以及根尖无吸收；(6)无正畸治疗史；(7)无全身系统性疾病史。

1.2 实……

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