干涉效应对ITO薄膜光学性能的影响
2021-03-15刘子健赵亚丽李晓云罗湘玉
大学物理 2021年3期
刘子健,赵亚丽,李晓云,罗湘玉
(晋中学院 数理学院,山西 榆次 030619)
锡掺杂氧化铟(In2O3:Sn,ITO)是工业中常用的一种透明导电氧化物薄膜.由于其在可见光具有较高透射比、良好的电导率、微波高吸收比、耐腐蚀等优良特性,被应用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微波屏蔽等领域[1-3].
近几年,人们对ITO薄膜光学性能的研究从未间断过[4-5].随着薄膜晶体管、液晶显示等高新技术的不断发展,对ITO薄膜的色泽均匀性及不同批次ITO膜产品的色泽一致性也提出了更高的要求.薄膜的颜色和色泽均匀性对触摸屏尤其是大型显示屏的应用有着重要影响,若所生产的薄膜出现色泽不均匀现象,不仅达不到预想的视觉效果,甚至会造成使用者视觉疲劳,导致产品不合格.因此,ITO薄膜色泽均匀性和一致性已成为ITO膜层关键品质因子.而ITO膜厚的不均匀是造成ITO膜色泽不一致的重要原因[6].吴云龙等人利用磁控溅射法制备了不同厚度的ITO薄膜并探索了ITO薄膜颜色、可见光透过率与膜厚的关系,得到了薄膜颜色随膜厚的增加呈有规律的变化,可见光透过率随膜厚的增加呈现锯齿状下降规律[7].研究结果表明了随膜厚的增加,ITO薄膜颜色会出现明显的周期性变化规律,但并未建立ITO薄膜对膜厚的色卡. 随电子产品技术等级提高,ITO膜的色泽和亮度控制技术重要性越来越凸显.建立ITO薄膜色泽和膜厚关系的重要性和必要性越来越突出.
本文采用TFCalc光学薄膜设计软件计算出不同膜厚、不……
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