马喜宝，董同社

(上海微高精密机械工程有限公司，上海201203)

掩模版升降定位存取机构，是光刻设备的一个关键模块，随着光刻设备向着短波长、大片径、高分辨率、大焦深、高套刻精度的方向发展，对掩模版的升降速度、定位精度、存放环境、取放版的效率和安全性等提出了更加严格的要求，既要满足SEM I标准掩模版盒的接口要求，同时又要适应具有不同尺寸规格(5英寸、6英寸)和单版或者6版的掩模版盒的需求，以增加互换性和维修性，降低成本，提高效率。

1 功能需求和性能需求

为满足掩模版盒的锁定和解锁，掩模版的升降和定位，掩模版的存放、洁净等需求，掩模版定位存取机构需满足表1中的功能需求和性能需求。

2 基本机构

掩模版定位存取主要有两部分组成：掩模版盒锁定和解锁机构；掩模版升降定位机构，如图1所示。

2.1 锁定和解锁机构

锁定和解锁指的是把存放掩模版的版盒放置在锁定和解锁机构SEM I接口上并由定位销定位，两对锁销向两边移动，将掩模版盒的有机玻璃光罩盒和掩模版架底托分离，同时将有机玻璃光罩盒锁定在SEM I接口的固定法兰口上，掩模版架底托随版盒托板一起进行升降运动，完成解锁过程；移走掩模版盒时，两对锁销向中心移动，使有机玻璃光罩盒和固定法兰口脱离，同时将其和掩模版架底托锁紧，使之成为一体，完成锁定过程。其构成如图2所示。

表1 掩模版定位存取机构需满足的功能和性能

图1 掩模版升降定……