沈天成 陈叶娣 姚佳 刘星宇 卢炎

作者简介：沈天成（2001—），男，本科在读，研究方向为机械设计制造及其自动化。

陈叶娣（1978—），女，本科，副教授，研究方向为模具设计与制造。

摘  要：该文首先提出了常见的玻璃表面蚀刻装置在蚀刻处理玻璃表面过程中的问题及事后蚀刻装置对玻璃不易清洗的问题，通过对蚀刻机重新设计，提出了制造半导体瀑布式蚀刻机的设计方案和运行过程，经验证满足玻璃蚀刻装置的要求，敘述新型玻璃蚀刻装置结构设计所带来的有益效果，然后阐述玻璃蚀刻机在工业方面和工艺方面的应用，最后提出蚀刻机未来发展在蚀刻准确度、安全与环保方面仍然需要注意的问题。

关键词：蚀刻机  玻璃蚀刻  工艺创新  工业生产

中图分类号：TN30           文献标识码：A           文章编号：1672-3791（2021）12（c）-0000-00

Abstract： The article first puts forward the problem of common glass surface etching device in the process of etching the glass surface and the problem that the etching device is not easy to clean the glass afterwards. Through the redesign of the etching machine， the design scheme and operation of manufacturing the semiconductor waterfall etching machine are proposed. The process is verified to meet the requirements of the glass etching device， and the beneficial effects brought by the structural design of the new glass etching device are described. Then， the industrial and technological application of the glass etching machine is explained. Finally， the future development of the etching machine is proposed in the etching accuracy， Issues that still need attention in safety and environmental protection

Key Words： Etching Machine; Glass Etching; Process Innovation; Industrial production

刻蚀就是用化学、物理或两者结合的办法，通过曝光制版、显影后，有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜层除去，从而在薄膜上得到和抗蚀剂膜上完全一致的图形[1]。

半导体玻璃蚀刻作为化学蚀刻的一种，指用氢氟酸腐蚀其表面，将玻璃涂上石蜡，然后在石蜡上用工具刻画图案，再在其面涂上氢氟酸，最后可以得到玻璃蚀刻图案[2]。

1  市场上的传统产品存在的缺陷

常见的玻璃腐蚀装置都是箱式结构，其装置中会产生水波，影响玻璃的质量;其次由于蚀刻液是由氢氟酸与水混合而成，在喷洒的过程中，会形成粉末结晶与蚀刻液混合在一起，经过循环装置，会一同流入混合液箱中，影响混合液浓度。……