张启凯

（合肥工业大学化学与化工学院，安徽合肥230009）

随着现代科技的发展，电子显示设备越来越趋向超薄化，玻璃基板的厚度也越来越低，甚至降到0.3 mm以下。因此，玻璃基板中的蚀刻减薄工段成为十分重要的环节。目前玻璃减薄蚀刻通常采用酸蚀刻处理法，以氢氟酸蚀刻剂进行玻璃减薄蚀刻，但随着蚀刻的不断深化，HF 浓度降低，HSiF浓度升高，当HSiF浓度达到10%～15%时，玻璃减薄液粘度增加，蚀刻能力下降，无法继续使用，形成蚀刻废液。玻璃减薄给人们带来便利的同时也产生了巨大的蚀刻废液，若不加以处理，直接排放，不仅给环境带来巨大危害，同时造成资源浪费。本实验根据文献报道，模拟配制蚀刻废液，其组成为：6%～8% HF，13%～15% HSiF。

目前，国内外关于玻璃减薄蚀刻废液处理技术的研究非常少，主要采用石灰中和法处理玻璃减薄蚀刻废液。该工艺流程虽短、操作简便，但存在废渣产生量大的问题，需经后续处理才能排放（处理费≥2 000 元/吨）。此外，这种处理方法浪费了废液中大量未反应的酸性物料，造成有价资源浪费。李凯华等提出了氟硅酸在蚀刻废液中的选择性去除工艺，并探究了不同沉淀剂种类、沉淀剂添加量对氟硅酸去除效果的影响，但氟硅酸回收率不高。徐金兰等采用石灰中和沉淀处理含氟废水，产生的CaF废渣后续处理费用高。综上，本文采用选择性沉淀技术对氟硅酸进行回收。最后通过对洗涤剂种类及相关工艺的研究，不仅回收高纯度氟硅酸盐，而且处理后的母液可循环使用。……