邱海斌

（沈阳广播电视大学，辽宁 沈阳 110003）

0 引言

目前，我国科学技术得到较好发展，晶圆表面平整度已达到纳米级加工精度，但是传统平坦化技术属于局部平坦化工艺，很难实现全局平坦化。其中CMP能够有效实现全局平坦化的一种技术，并且工艺控制可有效满足加工要求。但是，随着CMP 硬件与软件系统相对较为复杂，在半导体产业中的应用过程中，用户对CMP 系统提出了个性化要求，这就需要提升系统软件控制程序的灵活性与复用性，所以需要将MVC 应用在CMP 软件系统中，能够提高系统维护性与复用性，为CMP 软件模块开发质量的提升奠定良好的基础。

1 MVC 架构原理

1.1 MVC 架构

MVC 构架在进行代码组织的过程中，需要通过截面显示、数据以及业务逻辑分离方法来完成。MVC 架构会使程序输入、输出以及处理分开，以此使应用程序分为不同核心部件，也就是视图、模型以及控制器，其中M 主要是业务数据，V 主要是视图，C 是控制器，不同核心部件在运行期间会对各自业务进行处理，彼此相互独立，以此为软件工程管理与维护奠定良好的基础。

MVC 具体功能主要表现在以下几个方面：（1）视图层。方便用户进行可视化操作的程序截面，并在此基础上把数据与控制信号结果通过文字、图像的方法呈现，开发者能够对不同视图进行定义，主要是对信息与数据实施有效呈现；（2）控制层。控制层在控制系统中是核心内容，主要完成计算机与用户之间的交互，并对用户输入信息进行处理，从模型层与视图层对数据有效读取，同时将数据发送至模型，是对用户交互进行处理的部分；……