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浅低温脑灌注在体外循环下小儿室间隔缺损修补术中的应用

2020-05-07汤蕙霞中国医科大学附属盛京医院小儿外科辽宁沈阳110004

局解手术学杂志 2020年4期
关键词:手术

王 鸿,汤蕙霞,刘 杨,陈 凤 (中国医科大学附属盛京医院小儿外科,辽宁 沈阳 110004)

室间隔缺损是临床常见的先天性心脏病,可严重影响心脏功能。室间隔缺损占小儿先天性心脏病的25%~40%,是常见的死因[1]。室间隔缺损修补术是此类患儿临床常用的治疗手段,在体外循环下实施室间隔缺损修补术可保护其脏器功能[2]。手术过程中局部停止循环可造成重要器官发生缺血缺氧性损伤,易增加术后心输出量低及脑功能损伤的风险,低温脑灌注可有效保护大脑及心功能,但临床上针对具体灌注条件仍有争议[3-4],浅低温与中低温脑灌注哪一种方法更优尚无定论。因此,本研究通过回顾性分析于我院接受浅低温与中低温脑灌注体外循环下行修补术的室间隔缺损患儿的临床资料,对比2组患儿术中术后循环及神经功能,探究更优的灌注条件,以期为室间隔缺损患儿治疗方案的选择提供参考。

1 资料与方法

1.1 临床资料

回顾性分析2017年2月至2018年7月我院收治的81例小儿室间隔缺损实施体外循环下修补术患儿的临床资料,将其中43例术中采用浅低温脑灌注治疗的患儿设为浅低温组,将38例术中采用中低温下脑灌注治疗的患儿设为中低温组。比较2组患儿的临床资料,差异无统计学意义(P>0.05),具有可比性(表1)。本研究经我院伦理委员会审批通过。

表1 患儿临床资料比较

纳入标准:确诊为室间隔缺损且符合体外循环下室间隔缺损修补术治疗指征;术中实施连续脑灌注治疗;有……

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