纳米光栅制作技术的最新进展

2016-12-30李秋琦孙亚东陈旗湘刘旭静余森江中国计量学院应用物理系

海峡科技与产业 2016年2期

关键词：方法

李秋琦孙亚东陈旗湘刘旭静余森江中国计量学院应用物理系

纳米光栅制作技术的最新进展

李秋琦孙亚东陈旗湘刘旭静余森江中国计量学院应用物理系

随着信息化社会的高速发展，现代光栅逐渐应用于信息处理及量子光学等领域，所以纳米光栅的制作变得十分重要。作者首先简要介绍了纳米光栅制作的几种传统方法，包括机械刻划、全息光刻、飞秒激光直写等。传统方法均存在成本高、工期长、条件苛刻、制作过程复杂且难以控制等缺点。在此基础上，作者综述了最新发展起来的基于薄膜应力自组装制作纳米光栅的方法，并对该方法的实验原理、物理机制和适用范围进行了深入讨论。

薄膜；应力；自组装；纳米光栅；PDMS

1 引言

光栅是一种精密光学仪器的核心器件，通常，由大量等宽等间距的平行狭缝组成。最初，光栅被用来实现复色光的空间分离，发展至今已有两百多年的历史。21世纪以来，光栅的作用不再局限于光谱学领域，天文学、量子光学、集成光学、光通讯等诸多领域都需要光栅的参与。本文首先简要介绍了纳米光栅制作的传统方法，然后讨论基于薄膜应力自组装制作纳米光栅的方法，期望引起国内科技工作者的关注，并得到进一步的研究与推广。