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含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能

2016-08-17张立眉高建峰张立成

合成化学 2016年6期

张立眉, 高建峰, 张立成, 王 赫

(1. 中国铝业公司,北京 100082; 2. 中北大学 理学院 化学系,山西 太原 030051;3. 中国航天科工集团第四研究院,湖北 武汉 430040)



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含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能

张立眉1*, 高建峰2, 张立成1, 王赫3

(1. 中国铝业公司,北京100082; 2. 中北大学 理学院 化学系,山西 太原030051;3. 中国航天科工集团第四研究院,湖北 武汉430040)

对羟基苯甲醛与对胺基苯甲酸缩合制得刚性基元(1);3-溴丙烯与对羟基苯甲酸经取代反应制得对烯丙氧基苯甲酸(2); 2经加成和酰氯化后,与1经酯化反应合成了含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶(5),其结构经IR确证。对5的液晶性能进行了测试。结果表明:5属于近晶型条带织构; 5具有较高的熔点和清亮点温度,液晶区间在180.34~251.11 ℃。

聚硅氧烷; 席夫碱; 液晶; 条带织构; 合成; 液晶性能

席夫碱化合物通过活性羰基和胺缩合制备,其含C=N双键,可用作螯合剂、稳定剂、生物活性剂、光电导介质等,已成为材料、化学、药物、光学等领域的研究热点,在生物及材料学领域具有重要作用[1-6]。席夫碱基团与芳环相连的化合物易出现液晶相[7-9],因为亚胺(CH=N)桥键上的碳氮双键与芳环间连接电子易形成离域化共扼大π键,分子可极化性增大,分子间作用较强,因而易于取向形成介晶相。席夫碱液晶基团接枝于聚硅氧烷上,可发挥其功能性特点,具有热稳定性好、光响应性快等特点,是一类极具潜力的液晶材料[10-11]。

Scheme 1

本文根据逐步设计的思路,将羟基先引入液晶基元,然后再经一系列反应接枝到高分子链中,制备了端基为羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶。……

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