蔡蓓

摘 要：随着经济社会的不断发展，我国工业生产过程中使用的技术越来越先进，其中在金属材料的制备过程中，相关的技术人员经常采用ALD技术进行生产加工。通常情况下，ALD技术又称之为原子沉淀技术，这是一种三维共形沉积金属薄膜或者金属纳米结构的重要技术方式。对此，本文将重点针对我国金属材料制备过程中的原子层沉积（ALD）技术的基本技术原理以及实际的加工制备特点进行分析，在此研究过程中结合其实际的应用情况对原子层沉积（ALD）技术的应用研究进展以及实际发展过程中所面临的相关技术挑战进行分析研究。

关键词：ALD技术；金属材料；制备；现状分析；挑战

纳米科技是我国工业生产加工中新型的一种技术工艺，特别是金属纳米结构以及三维共形沉积金属薄膜在我国的磁存储以及微电子和光电子以及催化等相关的技术领域都有十分重要的应用。在我国当前工业加工生产中，金属材料的制备需要采用先进的技术工艺，因此传统的加工制造工艺已经难以满足当前的发展需要[1]。通常而言，金属材料的制备需要采用平整均匀以及三维贴合性能十分优越的金属膜层，因此在这样的发展背景下，原子层沉淀（ALD）技术（atomic layer deposition，ALD应用而生。

1 金属材料技术制备过程中ALD技术的概况分析

原子层沉积（ALD）技术的主要应用实践过程是将前驱体脉冲交替地通入反应腔，在沉积基底中进行表面化学吸附反应，从而产生一种金属薄膜。……