短暂性脑缺血脑深部髓质静脉分布的SWI分析
2016-04-13李虹易杨本强刘文源常灿灿张连雪
李虹易,杨本强,段 阳,刘文源,常灿灿,刘 娜,张连雪,林 森
(沈阳军区总医院放射诊断科,辽宁 沈阳 110016)
◁中枢神经影像学▷
短暂性脑缺血脑深部髓质静脉分布的SWI分析
李虹易,杨本强,段 阳,刘文源,常灿灿,刘 娜,张连雪,林 森
(沈阳军区总医院放射诊断科,辽宁 沈阳 110016)
目的:应用磁敏感加权成像(SWI)技术研究短暂性脑缺血(TIA)脑内深部髓质静脉(DMV)的分布。方法:双盲回顾性分析118例TIA患者及32例正常志愿者的临床及脑部MR影像学资料。两位放射科医生共同判定图像质量、DMV对称性(对称定义为相同区域均有DMV显示,数量差<5根且扩张程度相近),分别判定DMV分型并对数据进行一致性检验(Kappa)。将侧脑室旁DMV和同侧脑浅层静脉(SCV)管径对比分为3型,Ⅰ型:无DMVs;Ⅱ型:DMVs
脑缺血发作,短暂性;磁共振成像
磁敏感加权成像(SWI)对脱氧血红蛋白、含铁血黄素等顺磁性物质敏感,具有发现微小的血管结构、侧支循环和微小出血灶的优势和能力[1],对于脑微循环的研究具有深远的临床价值。目前随着SWI新技术应用和推广,已经成为临床常规应用的技术之一。在脑出血和脑卒中患者中也可以发现异常的血管结构和深部静脉的变化。Mucke等[2]研究表明深部髓质静脉(Deep medullary vein,DMV)非对称性改变对脑卒中患者预后具有临床意义。但是对于短暂性脑缺血(Transient ischemic attack,TIA)的DMV研究目前未见报道,深入研究TIA脑内DMV分布可以更直观地解读TIA患者脑内微循环层面上的变化特点,提早发现疾病,降低继发脑卒中的发病率。……
