覆Ag层对用于LD封装的In焊料性能的影响
2012-05-31王永平程东明伏桂月卢小可张微微
电子与封装 2012年8期
王永平,程东明,伏桂月,张 勇,卢小可,张微微
(郑州大学物理工程学院,郑州 450000)
1 引言
随着技术的进步,LD的转换效率以及输出功率也不断提高,这就对器件的封装技术提出了更高的要求,尤其对焊料的研发与选用提出了新的挑战。由于LD管芯一般是P面朝下贴装在热沉上的,有源区距热沉距离很小,所以在封装过程中,焊料对管芯的性能有决定性的影响。
用于LD封装的焊料一般是In焊料和Au80Sn20焊料,In焊料为软焊料,具有良好的塑性形变和湿润特性,可以很好地湿润大多数金属,而且可以缓解芯片与热沉膨胀系数的不匹配,被广泛应用于LD器件的封装。但In在烧结过程中易氧化,可在In焊料表面镀一层Ag作为保护层,由图1可知在In wt.97%时形成熔点为144℃的共晶合金AgIn2,Ag的加入有效地降低了焊点熔点温度[6~9]。本文从Ag层厚度和降温速率对内部In焊料性能的影响做了系统的分析。

图1 Ag-In二元相图
2 样品的制备
为研究Ag层对In焊料性能的影响,我们分三次分别在Si基底上用真空蒸发的方法镀覆有Ag层200nm、400nm、600nm的In焊料各三片。对三种样品分别在峰值温度为180℃的空气环境下进行模拟回流处理,所有样品均在峰值温度下保持1min,最后使样品分别在冷风加速冷却、自然冷却和5℃/min的速率下冷却至室温。对所有样品进行扫描电子显微镜表面形态观察和XRD成分分析。
3 结果与讨论
使用X’Pert PRO型X射线衍射分析仪对样品进行了成份分析,得到了三种样品在不同冷却速率下的XRD图谱,如图2~图4。
由图2我们可以看出,在Ag层……
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