室温下富氧空位In2O3微管的制备及其Cl2气敏性能研究*
2022-07-08马江微李怡敏朱亚武孙志刚胡季帆
功能材料 2022年6期
马江微,李怡敏,朱亚武,雍 辉,崔 燕,孙志刚,胡季帆
(太原科技大学 材料科学与工程学院,太原 030024)
0 引 言
近年来,新冠疫情的发生使得日常消耗品消毒液的需求量日益增加,氯气(Cl2)作为消毒液的重要原料,其需求量同时增加,因此,开发灵敏度高、选择性好、检测限低、成本低、便携式的Cl2气体传感器具有重要意义。目前已被报道的Cl2传感器金属氧化物半导体材料有In2O3[1]、SnO2[2]、WO3[3]、ZnO[4]、和CdIn2O4[5]等。其中,最常见的金属氧化物半导体材料分别是In2O3,它是一种重要的n-型半导体材料,具有宽带隙,已广泛应用于有毒气体探测器、太阳能电池和生物传感。为了提高Cl2气敏性能,目前常采用控制形貌[6]、掺杂[7]和复合[8]等方法。
众所周知,氧空位是金属氧化物半导体中的元素点缺陷[9],在电催化[10]、超级电容器[11]和气体传感器[12]等应用中发挥着重要作用。氧空位的存在不仅可以调控金属氧化物的电子结构,还提供了更多的活性位点,进而可以促进气体吸附过程[13]。Hieu课题组证明了氧空位是Cl2传感过程中重要的反应位点[14],因此,提高氧空位浓度是制备具有高性能In2O3基传感材料的一种有效方法。在金属氧化物中产生氧空位的传统方法是氢气热退火[15],然而,这种方法成本高和安全性差。近年来,一些改变金属氧化物氧空位浓度的其它方法被报道,如掺杂金属[16],高温退火[17],等离子体刻蚀[18]和溶液还原方法[19]等。例如,Mi课题组利用碳掺杂可以降低氧空位的形成能,从而诱导富氧空位材料的生成,通过水热法和氢气氩气保护煅烧制备了氧空位富集的C-In2O3材料[20]。……
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