谷珍杰，温旭杰，张维佳，华平壤，饶前程，黄 颖

(1. 天津科技大学电子信息与自动化学院，天津 300222；2. 中电科技德清华莹电子有限公司，湖州 313000；3. 天津大学精密仪器与光电子工程学院，天津 300072)

随着“集成光学”[1]概念的提出和发展，人类正式进入光通信[2]时代．集成光学器件的性能主要依赖于核心光波导的传输性能和调制性能，以及波导光纤互连时耦合损耗对性能的影响．铌酸锂晶体具有优良的声光、压电以及非线性光学特性，利用薄膜结构可以更好地限制声表面波的传输．因此，在铌酸锂薄膜材料上制作波导，不仅可以充分利用材料的性能，还能利用其结构上的优势进一步提高器件的调制效率．人们通常采用刻蚀工艺在铌酸锂薄膜上制作脊波导[3–4]，与传统的扩散型沟槽波导相比较，脊波导有效地减小了弯曲损耗[5]，提高了光学器件的集成度．脊波导的引入不仅减小了光学模式的尺寸，提高晶体非线性效应的效率，还有效地降低铌酸锂电光调制器的半波电压[6]．尽管铌酸锂脊波导有上述很多优点，但由于波导尺寸减小，模场直径也随之减小，与普通单模光纤的模场直径存在严重的失配，最终导致集成光波导器件的插入损耗过大．此时，锥形结构[7-9]可将尺寸不匹配的波导和光纤进行高效地连接，因此，锥形脊波导可降低波导和光纤的耦合损耗.

现有脊波导的刻蚀工艺只能实现水平方向波导尺寸的调节，深度方向的波导尺寸是由薄膜的……