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低阈值N+P 双MOS 管辐照加固设计和工艺技术

2021-12-02行晓曦

科学技术创新 2021年32期
关键词:工艺产品设计

行晓曦

(西安卫光科技有限公司,陕西 西安 710065)

功率MOSFET 场效应晶体管具有开关速度快、驱动功率小、安全工作区宽、温度稳定性好等优点,被广泛应用于通讯、计算机、汽车和消费电子领域,并且是分立器件和功率集成电路(SPIC)中的重要组成部分。宇航和卫星用的MOS管与普通MOS管相比[1-2],需要在恶劣的环境中,如宇宙射线、高能离子等辐射环境中工作,因此,在航天器系统设计过程中,需要选择在空间辐射效应中具有最大失效容限的电子部件/器件。航天用的MOS管与国家安全、国民经济全局有一定的相关性,为确保我国航天工程自主创新和跨越发展,必须实现国产化替代。

对管MOSFET 作为一种新型需求器件,与单个MOSFET 产品相比,对管产品在设计之初就就行了性能和功能的匹配,产品同时出现在系统中共同实现一些电气功能,具有很高的市场应用需求。

1 器件工作原理简述

功率MOSFET 器件是电压控制型器件,它是由若干个单元并联组成的,器件的栅极和源极在芯片正面,漏极在芯片背面。图1给出了N沟VDMOS单元结构示意图,给栅极施加栅源电压VGS,当VGS<VGS(th)时,器件未开启,此时漏极电流很小;当VGS≥VGS(th)时,栅极下方Pbody区表面形成了很薄的N型导电层,使漏极和源极之间形成了导电通路,此时器件开始工作,漏极电流增大。功率MOSFET 器件就是通过施加栅源电压VGS使器件在开通和关断之间转换,因此多用于开关电源系统中。

图1 VDMOS 器件的基本结构

2 对管MOSFET 产品方案设计

本文研制产品的管芯设计、流片和封装、测试完全在本单位独立完成,完全自主可控。……

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