史天彩，潘立宁，王晓瑜，秦亚琼，郭 琼，谢 飞，谢复炜，刘惠民

中国烟草总公司郑州烟草研究院，郑州高新技术产业开发区枫杨街2 号 450001

GC-MS 法用于痕量分析时常存在基质效应［1-2］，即样品中除待测物以外的其他基质成分对待测物测定的影响。由于GC 进样口和色谱柱内存在金属离子和硅醇基活性位点，敏感性待测物在活性位点发生吸附作用或降解，导致待测物损失或色谱峰拖尾［3］。测定实际样品时，样品基质中的其他活性成分填充了GC 活性位点，减少了待测物与活性位点的相互作用，改善了色谱峰形和峰高，导致相同质量分数待测物在实际样品中的响应值高于纯溶剂中，这种现象被称为“基质增强效应”［1］。目前，对基质效应的补偿方法主要有基质匹配标准溶液校正法［4-6］、同位素内标法［7］、多种内标校正法［8］、进样技术改进法［9-10］、样品多次净化法［11-12］、加入分析保护剂法［13-22］等。其中，最常用的是基质匹配标准溶液校正法，即利用不含待测物的空白基质匹配标准溶液对样品溶液进行校准，从而补偿基质效应。然而，在实际分析检测中，采用基质匹配校正法主要存在以下3 点不足：一是不含待测物的空白基质不易获得，二是不同类型样品基质之间有差异，三是基质匹配标准溶液可使用的时间期限一般很短，需要现用现配，而基质匹配标准溶液的配制复杂且耗时。

在标准溶液中加入分析保护剂（Analyte protectant,AP），使AP 代替基质占据GC 活性位点，从而改善溶剂标准溶液中待测物的响应及峰形，达到基质效应补偿的效果。……