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HEDP镀铜体系中铜阳极的电化学溶解行为

2021-09-17刘静廖志祥吴雨桥王帅星马小昭杜楠

电镀与涂饰 2021年16期
关键词:体系

刘静,廖志祥 ,吴雨桥,王帅星,马小昭,杜楠

(1.中国航发西安航空动力控制科技有限公司,陕西 西安 710077;2.南昌航空大学 材料科学与工程学院,江西 南昌 330063;3.湖北三江航天江北机械工程有限公司,湖北 孝感 432100)

航空工业中,部分零部件需要进行局部渗碳、渗氮等处理,对于其他非化学热处理部位需要进行镀铜保护,镀铜层孔隙率低、结合力好是关键所在。氰化镀铜层在厚度为30 ~ 50 μm时可以有效满足此要求,因此一直是航空部件化学热处理保护的首选。然而,氰化物对环境及人体有严重危害,开发无氰镀铜工艺已是势在必行。在众多的无氰镀铜工艺(如焦磷酸盐体系、酒石酸盐体系、乙二胺四乙酸体系、柠檬酸盐体系、羟基乙叉二膦酸体系、乙二胺体系等)中,羟基乙叉二膦酸(HEDP)镀铜体系槽液性能稳定、使用寿命较长,可以直接在钢铁基体上获得结合力良好的镀铜层,是一种很有前景的无氰镀铜体系[1-3]。

目前,有关HEDP体系无氰镀铜的研究已有一些报道,主要涉及主盐的选择、工艺条件的优化、添加剂的筛选、铜电沉积的电化学行为等方面[3-7],然而对HEDP镀铜过程中阳极铜的溶解机制鲜有关注。众所周知,电镀铜的过程中,阳极发生铜的电化学溶解,为镀液提供源源不断的铜离子;阴极则发生铜离子的电沉积过程,不断地消耗铜离子,阳极产生的铜离子与阴极消耗的铜离子量基本持平,镀液中铜离子的量基本保持稳定。无论阴极还是阳极反应出现故障,都将对电镀过程造成严重影响。……

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