杨 坤

(核工业理化工程研究院，天津 300180)

同位素技术广泛应用于基础科学、地质学、生物学、医疗诊断以及半导体技术等诸多领域[1]。在气体同位素分离领域，分离设备及分离系统只能对气体进行分离并输运。由于多数目标同位素对应的分离工质都存在一定的化学活性，同时分离系统中因管路材质的渗透性质、管路连接的不可控微小漏率等因素不能保证绝对密封，导致在分离过程中将出现持续少量的化学反应。如果反应过程中产生固体反应产物，那么固体产物将成为沉积物滞留在分离设备中，沉积物会对分离设备性能有一定影响。随着沉积物的增加，分离设备的分离性能将逐步下降，进而影响同位素的稳定生产。分离设备经过长期运行，固体沉积物持续积累，最终将严重影响分离设备的分离性能，因此需要定期对固态沉积物进行清理。

目前主要的清理方法是在分离设备中通入某种气态物质作为清理剂，能与固态沉积物发生化学反应，生成物全部为气态产物，并经供取料系统取出，从而达到清理目的。但是现有技术只能进行单级清理，即级联系统中各级分次单独清理，无法进行多级串联的级联清理，致使完成级联系统清理所需时间较长，清理剂需求量也很大。

基于以上清理方法，本文将介绍一种用于级联内不同气态物质分布形式的计算方法，计算相应级联工况下级联各级的清洗效果，为实际的级联清理提供技术支持。……