张勇 李林 彭林 王志刚 神户诚

摘  要：为提升产品品质，满足市场需求。B19采用光配向工艺（UV2A）对PI膜进行配向，其具有透过率高及广视角等优点，但其又有明显缺陷──拼接Mura（FDV曝光机名称，统称FDV Mura）。通过调整Mask位置、改变PI液种类、调整照度等方法进行Mura改善研究，结果表明：通过优化Mask Y方向offset（将中心暗线调至子像素中心）、选择更为稳定的PI液（或加强曝光能量波动控制）、提升TFT侧照度或降低CF侧照度，对改善Mura效果具有较好效果。

关键词：Mask offset;暗线;照度;方位角

中图分类号：TP394.1;TH691.9               文献标识码：A文章编号：2096-4706（2021）19-0034-04

Research on Improvement of the FDV Mura

ZHANG Yong， LI Lin， PENG Lin， WANG Zhigang， MAKOTO Kambe

（Display Business B19 Cell Department， BOE Technology Group Co.， Ltd.， Chengdu  610207， China）

Abstract： In order to improve product quality and meet market demand. B19 uses the optical alignment process （UV2A） for PI film alignment， which has the advantages of high transmittance and wide viewing angle. But it also has an obvious defect—splicing Mura （FDV exposure machine name， collectively known as FDV Mura）. Mura improvement research is carried out by adjusting the position of Mask， changing the type of PI liquid and adjusting the illumination and other methods. And the results show that the Mura effect can be improved by optimizing Mask Y direction offset （adjusting the center dark line to the center of sub-pixel）， selecting more stable PI liquid （or strengthening exposure energy fluctuation control）， increasing TFT side illuminance or decreasing CF side illuminance.

Keywords： Mask offset; dark line; illuminance; azimuth angle

0  引  言

近年，随着LCD液晶面板行业的不断发展，大尺寸、高分辨率、广视角、高透过率等液晶面板越来越受到市场追捧[1]。品质要求的不断提升，对面板制造行业提出了更为严峻的挑战[2]，也促进了其工艺、材料等不断改进与创新。

为提高产品性能（光视角、高透过率），B19 Cell部采取UV2A技术（Photo-alignment technology），对PI配向膜进行光配向工艺。UV2A技术即通过紫外光照射使基板表面的PI液中的趋光分子定向排列，进而诱导液晶分子定向排列[3]。其具有广视角、高透过率、高良率等优点[4-6]，但也有其明显的缺陷──区块Mura（FDV为设备名称，后统称FDV Mura）。FDV Mura产生对产品性能及产线良率等都产生了严重影响，因此改善Mura刻不容缓。

在对FDV Mura改善的过程中发现，其形成受曝光能量、曝光精度、材料及像素大小等诸多因素影响，因此，加大了Mura改善难度。本文特对其重要的影响因子──Mask offset值、PI配向膜类型、曝光照度等，进行了相应探究及分析。为改善光配向Mura（Panel点灯时的区块Mura）提供解决方案及工艺参考。……