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频率、占空比及其交互作用对镁合金 微弧氧化膜层结构和耐蚀性的影响

2021-02-03张睿峰马颖孙乐王占营吴雄飞高唯

表面技术 2021年1期
关键词:影响

张睿峰,马颖,孙乐,王占营,吴雄飞,高唯

(1.兰州理工大学 省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室,兰州 730050; 2.奥克兰大学 工学院,新西兰 奥克兰 1142)

镁及镁合金具有密度低、比强度高、导电导热性好以及电磁屏蔽性能优异等特性,近年来在汽车、航空、电子产品及医疗等领域得到广泛应用。但是金属镁的化学性质十分活泼,其标准电极电位为-2.37 V[1],极易受到外界环境介质的腐蚀,镁合金常见的腐蚀形式有表面氧化、点蚀、晶间腐蚀等。由于镁合金的耐腐蚀性很差,从而限制了其在工业中的应用。因此,镁合金表面防护的研究对改善镁合金耐蚀性有重要意义[2-4]。

微弧氧化是一种以阳极氧化工艺为基础发展而来的新型表面技术[5]。它突破了传统阳极氧化低电压的限制,以Al、Mg、Ti 及其合金为基体,引入几百伏的高电压,在基体表面发生等离子体放电,通过等离子化学、热化学和电化学等复杂反应,在基体表面原位生长一层多孔结构的陶瓷氧化膜[6]。微弧氧化技术工艺简单、环保,生成的膜层具有厚度可控性且与基体结合紧密,有较好的绝缘性、耐磨性、耐腐蚀性和耐热冲击性能,能够明显地提高基体金属的性能[7-8]。影响微弧氧化膜层性能的因素主要有电源工作模式[9]、电解液[10]、电压[11-13]、频率[14-16]、占空比[17-20]和添加剂[6,21]等。其中频率决定了单周期内脉冲的通电次数,占空比决定了单次脉冲的通电时间,控制单脉冲通电时间的过程也是在限制电能量,所以频率、占空比对微弧氧化膜层的厚度、微观结构和耐蚀性有重要影响。……

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