摘  要：PECVD制程工艺中，会产生氟化氢和氢气等气体，氟化氢是有毒气体，需要进行尾气过滤处理后，才能排放大气;但是排气系统中因过滤装置的存在，自然会造成排气管路不通畅，真空泵因为自身的高压缩比，如果此时尾部压力过大，会损伤真空泵，从而影响泵的使用寿命;本文介绍的控制系统，合理的解决了这个问题，制程前期无氟化氢阶段，通过旁通快速排气，中、后期氟化氢阶段，因制程工艺需要控制在低压小于10Pa阶段，此时排气经过过滤，不会造成排气管路压力升高。

关键词：PECVD;有害气体;排气系统

引言

等离子表面处理作为提升材料表面性能有效方法被广泛应用于航空航天、汽车制造、机械重工和五金工具制造等领域。主要工艺有CVD、PVD 2种，CVD中的PECVD因淀积的薄膜具有优良的电学性能、良好的衬底附着性以及极佳的台阶覆盖性，所以广泛应用于集成电路、光电器件等领域。本文介绍的排气控制系统，主要解决前期无氟化氢阶段的快速排放和中后期氟化氢的过滤排放，经过实际使用证明，能满足设备需要，而不损害真空泵组中的螺杆泵，下面进行排气系统详细介绍。

1 排气控制系统组成

主要由真空泵组1，排气管路2，背压阀3，电动排气球阀4，5过滤筒1，6过滤筒2，液体收集器7，尾气连接管道8，组成，如图1所示。

真空泵组1：等离子真空镀膜机的真空动力源，保证反应腔体压力小于10Pa，泵组中螺杆泵的压缩比一般在8-10，属于设备中的核心设备，所以再排气过程中，需要保证螺杆泵排气口压力小于0.15MPa。……