曹燕，陈溢杭

(华南师范大学 物理与电信工程学院，广州 510006)

1 引言

纳米结构具有广泛的应用，比如光滤波器、传感器、吸收器等，因此吸引了研究者的注意，目前已经发展了各种制备纳米结构的途径，其中主要方法有：光刻法、电子束曝光(EBL)、激光直写(LDW)和胶体光刻(CL)等。光刻法是最早的纳米加工技术之一，虽然成本低、效率高，但因为光学衍射极限的限制，光刻法很难制作纳米级结构；而电子束曝光和激光直写虽然分辨率高且无需掩膜版，但成本高、效率低，不适合制备大面积纳米结构。因此，为了提高效率、节约成本，科学家提出了胶体光刻。胶体光刻，是一种利用自组装胶体作为掩模来制造纳米结构的技术，简单经济，可以替代先进的光刻技术，包括电子束、聚焦离子束和X射线光刻[1-6]。胶体球的自组装通常形成一个面向(111)的六角密堆积结构[7]，通过控制纳米球浓度和蒸发速率，在基底表面形成二维密集的六角密堆积结构，可广泛用于制作各种图案的模板[8]。通常，胶体纳米球可以直接在平面基底上形成模板，然而要实现大面积的周期单层球体是很困难的，从而制备大面积纳米结构有困难。所以进一步研究出了一种通过胶体光刻将二维纳米结构引入聚合物薄膜的方法，例如纳米模板压印技术。

纳米模板压印技术最早是由普林士顿大学的Stephen Y. Chou提出的[9]。纳米模板压印技术是直接将模板上的结构转移到所需基底上，完全精确复制模板图案，因此纳米结构的优劣取决于模板的质量。……