贺江涛，蔡海潮，薛玉君,b

（河南科技大学 a.机电工程学院 b.河南省机械设计及传动系统重点实验室，河南 洛阳 471003）

近些年，随着我国航空航天技术的高速发展，用于空间运动机构上的润滑材料和技术受到了诸多苛刻要求。由于航空航天器上的零部件所处工况环境恶劣，普通的油脂润滑不能很好地保证其运转的精度和高可靠性，而采用固体润滑材料和技术可以有效解决这些问题[1-2]。WS2作为一种固体润滑材料，有着类似“三明治”层状的六方晶体结构，由于通过微弱范德华力结合的S—W—S层间距较大，在发生摩擦行为时易于滑动而达到优异的润滑效果[3-5]。WS2对金属表面吸附力强，且摩擦系数较低，在高温高压、高真空、高辐射等严苛环境也能保持润滑，不易失效，在航空航天领域有着良好的发展前景[6-8]。

目前，制备WS2薄膜的方法主要有水热法[9]、机械剥离法[10]、硫化法[11]、化学气相沉积（CVD）[12]和物理气相沉积（PVD）[13]等。在各种 WS2薄膜制备工艺中，PVD技术的低温性能对加工表面形变影响小，易于在精密零部件上制备高耐磨、低摩擦薄膜，而磁控溅射是一种典型的PVD表面镀膜技术，具有沉积薄膜组织均匀、致密性好、工艺参数易控制等特点，受到国内外学者的广泛关注。

在磁控溅射沉积薄膜的实验中，工艺参数（如沉积压力、沉积温度、溅射功率等）对 WS2薄膜的结构和性能影响很大。为制备摩擦磨损性能优良的WS2薄膜，需要系统研究磁控溅射沉积 WS2薄膜的工艺方法。磁控溅射 WS2薄膜的原理是利用稀薄气体在低压真空环境中发生辉光放电，如果薄膜沉积时工作气压过低（＜0.1 Pa），靶材不能正常起辉；……