光电子器件外壳脉冲电镀镍钴合金工艺及其耐蚀性
2020-05-13周光波彭湘桂陈加辉刘永永
表面技术 2020年4期
周光波,彭湘桂,陈加辉,刘永永
(中电科技集团重庆声光电有限公司,重庆 400060)
镍镀层具有良好的力学、磁学性能和化学稳定性,被广泛应用于光电子器件外壳电镀行业中[1]。近年来,行业发展对镀层性能要求越来越高,为进一步改善镍镀层的耐蚀性、硬度、耐磨性等,研究者们逐渐把研究重点转移到以镍为基础的合金镀层上。镍钴合金具有白色金属光泽,其硬度和耐蚀性比纯镍镀层更优,可作为防护装饰性镀层[2-3]。镍钴合金镀层因具有许多优良的物理、化学和机械性能,所以能广泛应用于微机械系统和航空航天等对材料表面有特殊要求的领域[4-5]。
电镀是制备镍钴合金镀层最常用的方法[6]。电镀制备的镍钴合金镀层不仅具有优良的耐蚀性、耐磨性和磁性,还具有高温稳定性[7-9]。但直流电镀的时候,会在阴极与溶液界面形成较厚的扩散层,使得阴极表面金属离子浓度降低,从而产生浓差极化,限制了上镀速度[10]。而使用较大的电流密度,又会增加阴极析氢量,降低电流效率,镀层容易出现针孔、麻点、氢脆、烧焦和气泡等不良现象[11]。为了克服直流电镀的种种弊端,脉冲电镀这项更优的电镀技术近几十年来得到了快速发展[12]。脉冲电镀利用一个脉冲周期中的脉冲关断时间内电流或电压的张弛,使阴极区附近的放电离子有时间恢复到溶液主体浓度,克服自然传递限制,以降低阴极浓差极化;而在电流导通的时候,又能增大电化学极化,使阴极附近的金属阳离子被快速沉积,生成结晶更细致的沉积层,进而改善镀层的物理化学性能[13]。……
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