王冀康*，王永康

（1.新乡医学院第二附属医院，河南省生物精神病学重点实验室，河南 新乡 453002；

2.中国联合网络通信有限公司新乡市分公司，河南 新乡 453000）



【经验交流】

影响电脑硬盘垂直记录磁头写头镀层均匀性的因素

王冀康1，*，王永康2

（1.新乡医学院第二附属医院，河南省生物精神病学重点实验室，河南 新乡 453002；

2.中国联合网络通信有限公司新乡市分公司，河南 新乡 453000）

讨论了在电脑硬盘垂直记录磁头写头电镀FeCoNi合金时电镀基层、晶片设计、电镀挂架、电镀速率、电流密度以及电镀液pH和温度等因素对镀层厚度及成分均匀性的影响。

垂直记录磁头；写头；铁钴镍合金；电镀；均匀性；影响因素

First-author's address: The Second Affiliated Hospital of Xinxiang Medical University， Henan Key Laboratory of Bio-psychiatry， Xinxiang 453002， China

机械式电脑硬盘容量不断地增加，使用纵向记录技术（longitudinal magnetic recording，LMR）生产的电脑硬盘磁头已经无法实现此目的［1］，必须利用垂直记录技术（perpendicular magnetic recording，PMR）［2］。两种技术的主要区别在于硬盘磁头的写头（writer）需要不同的材料、形状及厚度，其对比如图1和表1所示。

图1 纵向记录与垂直记录磁头写头差别示意图Figure 1 Schematic differences between LMR and PMR head writers

表1 LMR与PMR技术的硬盘磁头写头的对比Table 1 Comparison between LMR and PMR head writers

从如图1及表1可以看出，PMR磁头的写头较LMR磁头更小、更窄，可以实现更大容量电脑硬盘的生产。LMR磁头的写头在电镀后其宽度一般约为2 μm，高度约为3 μm；后经离子束研磨（ion milling，IM），写头宽度变为1.0 μm左右；再经化学机械研磨（chemical & mechanical polishing，CMP），写头高度降为1.5 μm。而PMR磁头的写头在电镀后其最窄处宽度为0.2 μm，并且会随着新产品开发的需要进一步变窄，仅为几十纳米；再经CMP后，磁头高度降为0.3 μm左右。

进行新产品研究开发时发现若垂直记录磁头写头宽度较窄，电镀后镀层成分均匀性较差。……