韩 霜



离子印迹技术的研究进展

韩 霜

（哈尔滨石油学院，黑龙江 哈尔滨 150028）

离子印迹技术是近几年在分子印迹技术的基础上，新兴起的一项技术。其基本原理、步骤、特点、制备方法与分子印迹技术的大致相同，又有所不同。因为离子大多是可溶于水，因此离子印迹聚合物有其独特的一些优势，这为印迹技术的发展提供了新的方向。分子印迹技术现今仍存在的功能单体和印迹分子种类少、制备出的聚合物粒径大、印迹分子不容易洗脱等问题。

离子印迹；制备；研究进展

1 离子印迹技术的原理、步骤、特点

离子印迹技术的原理主要是以阴离子或者阳离子为印迹离子与功能单体之间通过一定的作用力，在适合的交联剂以及聚合方式的作用下，在水中完成聚合反应，然后再洗脱印迹离子，从而得到的具有稳定结构的离子印迹聚合物[1]。

印迹离子与功能单体间的作用力主要有：配位作用、络合作用、静电作用等作用。离子印迹聚合物和分子印迹聚合物一样具有立体的三维空穴和结合作用位点，对于离子物质的识别具有选择特异识别的能力。

离子印迹技术的步骤与分子印迹技术的步骤大致相同：首先是功能单体与印迹离子之间形成单体-印迹离子复合物；然后在适当的交联剂的作用下使单体上的功能基定向的排列和固定下来，形成稳定的离子印迹聚合物。最后再用溶剂把印迹离子洗脱出去，如图1所示。这样在印迹聚合物中就形成了与印迹离子大小和结构相同的三维空穴，这个空穴可以专一有效的重新选择识别目标离子，也就是我们常说的特异识别能力。……