徐 娇，何双材，胡 欣，齐 海，张金柯，白占旗

(浙江省化工研究院氟碳化学品研发和技术中心，浙江杭州 310023)

电子气体(Electronic gases)作为特种气体的一个重要分支，是超大规模集成电路、平面显示器件、太阳能电池，光纤等电子工业生产不可或缺的原材料，广泛地应用于薄膜、蚀刻、掺杂、气相沉积、扩散等半导体工艺。在全球电子气体市场上，含氟电子气体占比约为30%，主要用作蚀刻剂和清洗剂［1］。含氟电子气体主要为全氟 类 化 合 物，如:NF3、BF3、SF6、WF6、CF4、CHF3、CH2F2、CH3F、C2F6、C3F8、c－C4F8、C5F8、C4F6等。目前使用最多的 CF4、C2F6、c－C4F8等全氟烷烃(PFCs)在《京都议定书》中被认定为温室气体，对大气温室效应具有促进作用。当今社会，人们对环境的要求不断提高，半导体工业中的PFCs排放也成为全球环境的突出问题，传统含氟电子气体在未来的使用将会受到极大限制，因此，寻找新型环保的含氟电子气体显得尤为重要。

六氟－1，3－丁 二 烯 (Hexafluoro－1，3－butadiene，HFBD)在工业上有多方面的应用，不仅是制备多种含氟高分子弹性材料聚六氟丁二烯的单体［2］，还是一种温室效应极低，绿色环保的高效干蚀刻气体。其比传统等离子蚀刻气体的蚀刻选择性更高，更适合于高深宽比的蚀刻工艺［3］。近几年对HFBD的应用研究主要集中在超大规模集成线路的干法刻蚀方面［4］。众所周知，电子级工业气体必须“超纯”和“超净”，其杂质含量控制在 10－6，甚至 10－9级别。因此，研究HFBD的纯化技术对其在电子工业的应用非常有意义。

1 HFBD的性质及市场现状

1.1 HFBD的物化性质

六氟－1，3－丁二烯的 CAS 登记号为 685－63－2，全称 1，1，2，3，4，4－六氟－1，3－丁二烯，分子式 C4F6，化学式 CF2=CF－CF=CF2，相对分子质量 162.03。……