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基于杂质离子含量评价的LTPS-LCD面板测量体系

2021-10-15邓文广许叶潞温建辉黄碧钦金昌连

液晶与显示 2021年10期
关键词:测量

邓文广, 许叶潞, 温建辉, 黄碧钦, 金昌连

(厦门天马微电子有限公司,福建 厦门 361220)

1 引 言

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)因其低功耗、低辐射和轻薄美观等优点,被广泛运用于手机、电视、笔记本电脑、平板显示器等各种显示设备[1-3]。随着人们对显示品质的要求越来越高,如高亮度、高对比度、快速响应速度、广视角、屏幕高刷新率、强信赖性能力等[4-7],液晶显示技术也在飞速发展,从早期的非晶硅(a-Si)、IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide),到现在的低温多晶硅(LTPS)[8],以及逐步发展的有源矩阵有机发光二极管(AM OLED)、(量子点发光二极管Quantum Dot Light Emitting Diod,QLED)、微发光二极管(Micro-LED)等[9-11]。

LCD信赖性测试有很多项目,而这其中“残像”是极为重要的一项。残像是指液晶屏幕长时间在同一画面点亮,当切换到下一画面时,上一画面影像仍有残留在显示器上[12]。残像的测试方法目前主要是模组状态的成品在黑白棋盘格画面长时间显示,然后切换至不同灰阶确认是否有棋盘格残留。根据切换后的画面成像,还会细分出线残像与面残像[13-14]。二者造成的原因有所区别,但共通的一个重要原因是盒内存在杂质离子,而杂质离子的来源众多,主要受盒内材料配向膜、液晶、封框胶、生产线洁净度等影响[15]。造成最大困扰的是杂质离子暂无有效的监控手段,导致面板生产中出现残像问题时都需要完成模块状态的成品来获得验证结果,这其中势必带来了一个较长时间的反馈周期,对面板厂造成重大的经济损失。

针对这个问题,LCD业内有自制过mini-cell,测试电压保持率(VHR),以此来评价盒内杂质离子含量,但该类方法有明显的局限性:使用灌晶工艺,不适用于LTPS-LCD技术;……

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