摘要：靶材通常是指溅射靶材，它是制备功能薄膜的溅射源，在特定的面上形成10nm～10μm级薄膜（特种金属或混合金属氧化物），进而通过后续工艺形成导电层、栅极、阻挡层、绝缘层和线路等。由于ZnO薄膜材料无毒，制备温度较其他膜材料低，工艺流程简单，可以实现掺杂，原材料较其他靶材易得，有非常大的成本优势，所以ZnO靶材的市场前景十分广阔。本文主要讨论了ZnO靶材的制备技术、应用前景及发展趋势。

关键词：靶材;制备技术;应用;发展趋势

靶材通常是指溅射靶材，它是制备功能薄膜的溅射源，在特定的面上形成10nm～10μm级薄膜（特种金属或混合金属氧化物），进而通过后续工艺形成导电层、栅极、阻挡层、绝缘层和线路等。靶材溅射时工作原理如图1所示。它是集成电路、平板显示器（包括液晶显示器和触摸屏等）、薄膜太阳能电池和LED制备不可缺少的重要耗材。

随着科学技术的飞速发展，特别是集成电路、平板显示和薄膜太阳能电池产业的发展，对高纯高性能金属（合金）和氧化物陶瓷靶材的需求越来越大。TCO薄膜因其具有高导电性、高透光性，广泛应用在平板显示、太阳能电池及发光二极管等光电领域中。除此之外，TCO还运用于静电薄膜、气敏传感器、隐身材料、电磁波屏蔽、面发热膜、热反射镜大等领域。目前最常采用的TCO薄膜是ITO，但由于铟是稀有金属，全球铟探明储量11000吨，储量基础16000吨，导致其价格昂贵。同时，ITO薄膜自身也有较大缺陷，比如：易被还原，高温下透光率较低等。……