金则清

（东莞新科技术研究开发有限公司， 广东 东莞 523087）

0 引言

在当今高度信息化的时代， 人们对硬盘存储密度有着无止境的需求。为提高对信息的读写密度，要求硬盘磁头在磁碟上的飞行高度越来越低。然而，在磁头制造过程中磁头气垫面边缘离子刻蚀残留物的凸起极易引起磁头低空飞行时擦碟的问题进而破坏磁头的读写性能， 影响可靠性。

通过本文的研究发现， 刻蚀边缘凸起其实是一种刻蚀淀积物残留， 论文重点是对残留物的来源及改善方法进行了系统性的分析的基础上，采用DOE 实验方法优化了软烘及显影工艺后， 增强了光刻胶与基材的粘附性进从而极大地减少了这种沉积残留物残留。

1 离子刻蚀残留物产生的现象描述及分析

本文讨论的工序主要是在磁头加工工序中的真空工序， 主要目的是制作出磁头在硬盘里工作时所需要的气垫面形状，其主要流程包括光刻（Photo process）和离子刻蚀（Ion Milling）以及除光刻胶（Resist Stripping）。通过这些工序产生良好的气垫面形貌以达到磁头在磁碟上正确低空飞行、准确读写、并保持良好的可靠性。

在完成光刻及离子刻蚀工序后，采用扫描电镜（SEM）去测量残留物的高度和形貌， 发现气垫面边缘有刻蚀残留物。 通过对残留物区域及正常区域用能量色散X 射线光谱仪（EDX）进行能谱分析，显示除了Fe（铁）元素（来自夹具或工作腔室壁材）外，残留物区域与正常未刻蚀区域元素种类相同（含有C，O，Al，Ti 基材成分），含量也相近。因此刻蚀边缘凸起其实是一种刻蚀淀积物残留。……