蔡潇雨，魏佳斯，孙恺欣,3，刘 娜,3，张学典，庄松林

(1.上海理工大学 光电信息与计算机工程学院，上海 200093；2.上海市计量测试技术研究院,上海 201203；3.上海计测信息科技有限公司，上海 200234)

1 引 言

随着纳米技术的发展，纳米材料或器件的表面形貌特征对其技术性能有重要的影响，同时对微纳米测量技术也提出更高要求，为此，逐渐发展起来了相应的微纳米测量仪器[1～3]。典型的有扫描探针显微镜、光学干涉显微镜、微触觉坐标测量机、扫描电子显微镜、透射电子显微镜等。其中，基于白光干涉原理的测量仪器具有非接触、大量程、高精度、高效率的特点，广泛应用于新材料、半导体、光学器件等精密测量中[4～7]。

干涉显微测量方法是利用光波干涉原理测量表面轮廓，通过测量受物体表面形貌调制而变化的光程差在整个光场中的空间起伏变化，解算得到表面形貌。白光干涉测量技术是由单色光干涉测量技术演变而来，且由于相较单色光白光具有更短的相干长度，不会出现条纹影像互相混叠的情况，零级条纹对比度强，克服了传统单色光相移干涉术中相位模糊的问题[8～10]。

随着白光干涉测量仪器的发展，尤其是图像采集技术与处理软件的迭代，白光干涉测量系统从最开始的单一高度(Z方向)测量完善到了三维表面形貌的测量与表征。为了进一步研究白光干涉测量系统的计量特性，保证其测量结果的量值可靠，对白光干涉测量系统的测量不确定度进行分析与评定是非常有必要的，但目前尚无针对该类仪器的计量规范或国家标准详细指导评定方法。……