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碲锌镉衬底在CMP后的清洗控制方案探讨

2021-06-28谢振民

山西电子技术 2021年3期
关键词:晶片工艺

张 峰,孟 超,谢振民

(中国电子科技集团公司第二研究所,山西 太原 030024)

1 概述

以碲锌镉单晶为基础,主要分为高能射线光电探测器和红外光电成像探测器两个应用方向,碲锌镉(Cd_(1-x)Zn_xTe或CdZnTe)是制备碲镉汞红外焦平面探测器的理想衬底材料,通过改变碲锌镉的锌组分可以与不同组分的碲镉汞外延膜晶格完全匹配,且表面粗糙度低和平整度高,是液相外延和分子束外延碲镉汞材料的首选衬底[1]。

2 控制方案简介

该清洗流程是在碲锌镉衬底划片完成后,自动进行背面除蜡和正面去除光刻胶的工艺。涂蜡目的是,在减薄机械抛光时,粘连在标准尺寸的硅片或石英片上,用于机械抛光时的固定。抛光结束后,需防护正面以防止划伤故均匀涂抹光刻胶。然后在70℃热水槽内浸泡60min,取出晶片,再进行清洗。

清洗先要进行上挂,正反面依次清洗,第一步进行背面的除蜡工艺,除蜡完成后第二步进行正面除胶工艺,除胶完成后第三步烘干,最后下挂。

实现方式:使用额定负重2kg,机械手动作半径504mm的六轴机器人作为搬运载体,将机器人倒立于平移轴上,平移轴使用400W 16位编码的额定转矩1.3N·m,伺服电机带1:10减速机驱动。搬运中段放置花篮翻转平台。

控制使用三菱Q系列PLC作为主控制,使用CC-Link作为机器人通讯总线。编程方式使用STL步进梯形图实现。

3 清洗工序

3.1 准备条件

配液,1)石油醚浸泡槽,手工倾倒石油醚(沸程(℃)60-90,颗粒符合ASTM 0级)2.5L。2)石油醚二流体喷笔罐,手动卸压后,手工倾倒石油醚9L。3)丙酮二流体喷笔罐,手动卸压后,手工倾倒丙酮9L。……

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