李志东，戴思丹

(核工业理化工程研究院，天津 300180)

工业设备在长期使用中，管道及设备会积聚大量杂质，造成管道堵塞，影响产能。在处理管道内杂质时需大量人力物力，且耗费工时长，大大增加了工人的劳动强度并且降低了劳动效率。管道清洗装置可进行管道自动化清洗，可提高清洗效率。其工作过程为：以一组管道为单位，将清洗装置通过管道和阀门，临时接入该组管道中，通过调整阀门，配合压力、温度控制等工艺操作，完成一组管道的清洗。因此，清洗装置配套的自控系统需要控制阀门操作，监控压力、温度等工艺参数保证工艺操作的正确性，这在清洗工艺中起到关键作用[1]。同时，管道清洗的特点是依次对数组相同的管道进行管道清洗。因此，配套的自控系统应具备可移动的特性。另外，工作现场管道密布，可利用空间小，因此，自控系统必须满足结构约束要求。

工业设备运行实验自控系统多数采用世界领先的工控产品进行设计，比如以西门子S7系列PLC为硬件、WinCC为软件的系统架构，或者AB系列PLC为硬件、SE为软件的系统架构。这种架构虽功能强大，但是无法满足小型化自控系统的结构约束要求。因此，设计能同时满足功能要求以及结构约束的软硬件架构是研究重点。同时，需进行移动式自控系统的设计，拆装接口优化以及结构设计。清洗装置是临时装接到某一组管道上，操作频繁，步骤复杂，在这种情况下通过自控系统实现对工业设备的安全防护也是设计的关键。……