韩东利

（唐山三友硅业有限责任公司，河北 唐山，063305）

随着有机硅单体技术不断进步与发展， 二甲基二氯硅烷（二甲）恒沸水解工艺已逐渐被能耗较低的浓酸水解工艺所取代。 由于浓酸水解[1]工艺的特点，造成二甲水解反应不完全，随之而来的HCl 含油问题成为了影响各单体企业生产的又一难题， 合成氯甲烷的合成大多以液相法为主， 如其合成原料使用二甲水解制备的含油HCl[2]，由于HCl 气体中含有微量硅氧烷油类物质， 在催化剂和氯甲烷合成釜温度的共同作用下可发生交联反应形成白色固渣， 进而导致氯甲烷合成釜内触媒活性下降， 甚至造成系统设备堵塞而停车，不仅制约着系统的稳定、长周期运行，且存在停车清理时间长，运行、维护成本高等诸多问题。

1 HCl 含油原因分析

（1）二甲浓酸水解反应在低压状态（＜0.1 MPa）下水解更加充分，但受氯甲烷合成系统压力（＞0.2MPa）高影响，二甲水解不充分，形成小分子的硅氧烷油类物质进入到HCl 气体中。

（2）目前各单体企业所使用的HCl 净化装置主要方法为气液夹带非均相分离技术， 在生产装置设置除雾器，其临界分离粒径1～5 μm，其去除效率在99.5%左右， 经处理后HCl 气体中硅氧烷油类物质含量可达到10×10-6左右。 而化学反应产生的一部分硅氧烷雾滴尺寸在0.1～0.6 μm，因此，除雾器不能完全去除HCl 中的硅氧烷油类物质。

2 HCl 含油主要解决措施

（1）对浓酸水解系统进行工艺优化，通过增加HCl 脱除塔、水解反应塔、HCl 吸收系统等措施提高浓酸水解的水解反应效果。

（2）通……