微蚀体系对挠性基材侧蚀影响探讨
2021-04-25顾晓尉陆青望李梦龙
印制电路信息 2021年4期
顾晓尉 金 添 陆青望 李梦龙
(景旺电子科技(龙川)有限公司,广东 河源 517300)
0 前言
在挠性印制电路板(FPCB)生产制程中,产品在流转过程中铜面与空气接触会发生氧化,附着脏污、油脂,如果不及时清理会造成外观不良,在电镀工序还会造成镀层与基材结合力差,引发功能性问题。为解决上述问题通常会在清洗线增加微蚀流程,不仅可以清洁板面同时也可以起粗化铜面、增加镀层与基材结合力的作用。FPCB生产制程中,产品从完成图形线路后至成品会经过3次微蚀(无返工操作的前提下),分别是贴合前处理、阻焊前处理以及表面处理前处理。对于有板边插头的产品,在经过多次微蚀后导致产品板边插头发生侧蚀现象,如图1所示,与聚酰亚胺(PI)相连位置的铜被咬蚀,导致手指边缘位置起翘,严重时板边插头会与PI剥离、脱落,引发功能性报废。在实际生产过程中需严格管控微蚀量,且根据基材的特性不同选择不同的微蚀体系。

图1 板边插头侧蚀示意图
1 微蚀原理
常见的微蚀体系有过硫酸铵-硫酸[((N H4)2S2O8-H2SO4)]、过硫酸钠-硫酸(Na2S2O8-H2SO4)、过硫酸钾-硫酸(K2S2O8-H2SO4)、过氧化氢-硫酸(H2O2-H2SO4),虽然上述反应方法不同但原理相同,由于常温下稀硫酸和铜不发生化学反应,所以为达到清洁、粗化铜面的作用,都是利用强氧化剂将铜氧化成铜离子,铜离子和硫酸反应生成硫酸铜。本次实验用过氧化氢-硫酸体系、过硫酸钠-硫酸体系,对新日铁基材进行测试。在过氧化氢-硫酸微蚀体系中过氧化氢作为强氧化剂将铜氧化为铜离子,铜离子再与硫酸反应生成硫酸铜,其主要化学方程式为:Cu+H2O2+H2SO4→CuSO4+H2O;……
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