解一章

2020年10月14日，半导体巨头、全球光刻机领头企业阿斯麦（ASML）首席财务官罗杰·达森对向中国出口光刻机的问题作出了表态。他表示，阿斯麦可以从荷兰向中国出口DUV（深紫外）光刻机，无需美国许可。但讲话并未提到更先进的EUV（极紫外）光刻机。

芯片竞赛的火热，带着背后低调的光刻机也频频出圏。小小的芯片，不过拇指盖大小，却能在几十平方毫米的空间里，运行几十亿个晶体管。其中之精妙，令人惊叹。

在芯片制造中，光刻机是无法绕开的核心设备。我们可以将光刻机理解成一个成像设备，它将光源照射到设置好的图像，通过成像系统把电路图形精确复制到晶圆上，制造出芯片所需的图形和功能区。

看似简单的原理，背后却是纳米级别的精确度。因此，光刻机有着“半导体行业皇冠上的明珠”之称，而高端的光刻机更号称世界上最精密的仪器。

光刻机的竞赛，不仅在于精尖技术的毫厘突破，还在于数十年来，几大公司之间商业考量、技术争夺甚至不同国家间政治化博弈的不断微妙权衡。目前，荷兰阿斯麦、日本尼康以及佳能三大品牌占据了全球九成以上的市场份额，而最高级的EUV技术则完全掌握在阿斯麦一家手中。

罗杰·达森的松口，或许是一个危机暂纾的信号。但今后要想自主制造高端芯片，突破高端光刻机领域的技术垄断仍是绕不开的路。那么，国产光刻机会是下一个逆袭的“盾构机”吗？

EUV光刻机如何造就？

从濒临破产的小公司成长为光刻机巨擘，阿斯麦的商业故事是一个传奇。……