半导体晶体工艺节点演化路径
2021-04-18李兆营
科技研究·理论版 2021年18期
摘要:在集成电路设计过程中,半导体芯片需要逐步减少晶体管的体积来维持更高的集成度。特别是在电路制造技术飞速发展的今天,厂家对电路的要求也不断提高,这就要求集成电路能够以足够小的体积承载更多的元件。本文分析了半导体晶体工艺节点的演变,介绍了晶体管的发展过程。
关键词:半导体晶体;工艺节点;演化路径
1引言
集成电路制造业发展迅速,并根据摩尔定律,厂家研制出集成度较高的半导体芯片供其使用。在设备快速更新换代的时代,半导体芯片的技术节点演变速度也加快了,为半导体芯片的生产提供了更先进的技术手段。
2根据摩尔定律形成技术单元
1958 年,德州仪器工程师 Jack Kilby 创造了世界上第一条集成电路,1962 年德州仪器建成了世界上第一条商用集成电路生产线。此后,在市场需求的推动下,集成电路成长为一个庞大的产业,从小型集成电路(SSI)到中型集成电路(MSI),再到大规模集成电路(LSI),再到现代超高功率集成电路。大规模集成电路(VLSI)。集成度被认为是描述集成电路技术先进程度的重要指标。通常用晶体管的数量来表示集成度,一个芯片包含的晶体管越多,功能越强。因此,集成电路的规模反映了集成电路的先进水平。集成度的提高不仅意味着一个晶体管的尺寸减小,还意味着应用更先进的制造工艺,因为有一个晶体管的尺寸和制造工艺的区别,集成电路是一个不断缩小晶体管的过程。1990年代的大规模集成电路被迫使用微米级技术。……
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