秦 维，刘 杰，刘 念，王 笑，贾永兵，冯 晓，闫卫军

（陕西省西安应用光学研究所 陕西 西安 710065）

1 引言

计算机光学元件制作的过程中，主要使用掩模法、反应离子束刻蚀法等，目前已经开始应用在军事等国家重要领域中，形成了良好的技术应用和发展模式，属于我国各个领域中先进、可靠的技术基础。

2 计算机光学元件制作分析

2.1 掩模制作

此类制作方式主要就是利用掩模的光学制版刻蚀方式，用来进行二级、多级台阶特点的衍射光学元件制作，其可以在掩模板进行曝光之后，形成亮度、暗度相互交替的二值化图案，然后利用薄膜向下沉积形式或者是离子向下刻蚀的形式，使得图案能够转移到基片上面，实现元件制作的目的。二级台阶元件制作期间，通常需要多个掩模，开展多次刻蚀处理工作，每次刻蚀期间都必须明确各个掩模之间的图样有无相互重叠现象，对准的位置必须有一定的精确度，刻蚀期间必须保持着垂直的前进方向，针对位相具体的深度、宽度等进行准确控制，将误差设定在1%之内。近年来在计算机光学元件制作期间，为了改进掩模制作形式，已经开始采用直 写灰度掩模制作方式、模拟灰度掩模制作方式等，取得了良好的光学元件制作成绩，值得进一步的推广和应用[1]。

2.2 反应离子束刻蚀制作

反应离子束刻蚀技术属于目前较为先进的光学元件制作技术手段，主要是将离子轰击溅射、化学反应相互整合，最高程度上加快刻蚀的速度、提升制作效率。……