磁控溅射用W-Ti合金靶材的研究进展
2021-03-19杨亚飞姚草根吕宏军李启军崔子振
杨亚飞 姚草根 吕宏军 李启军 崔子振
(航天材料及工艺研究所,北京 100076)
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W-Ti 合金具有低的电阻系数、良好的热稳定性能和抗氧化性能等一系列优良性能,在集成电路扩散阻挡层[1]、CIGS薄膜太阳能电池[2]等方面具有广泛的应用。W-Ti 合金的应用形式为薄膜,一般通过磁控溅射,将W-Ti 合金靶材制备成W-Ti 合金薄膜。W-Ti 合金应用于集成电路扩散阻挡层已有超过40年历史,同样应用于集成电路扩散阻挡层的还有Ta和Ti[3]。集成电路内部导电层一般为Cu 和Al,导电层和扩散阻挡层一般根据种类搭配应用。Cu 和Ta搭配,应用于更高端、制程更小的集成电路领域。Al和Ti或W-Ti合金搭配,应用于汽车芯片等更加要求稳定性和抗干扰性的领域[3]。但是相同的材料纯度,W-Ti 合金靶材价格相较于Ta 靶材和Ti 靶材优势明显。除此之外,用W-Ti 合金靶材制备W-Ti-O 薄膜应用于气敏传感领域[4]和电致变色领域[5]也是未来的研究方向。
关于W-Ti 合金靶材的制备已有很多研究,大规模生产主要采用高温、高压的真空热压技术[6]和热等静压技术[7]。近年来,随着各种新兴技术的发展,沈丹妮等[8]用SPS(放电等离子烧结)技术来进行W-Ti合金靶材的制备研究,但是用SPS 技术制备的W-Ti合金靶材密度很难达到99%以上。黄志民[9]通过退火热处理消除W-Ti 合金靶材中的富Ti 相,在1 700℃时能够完全消除富Ti 相,但是晶粒却明显长大。代卫丽等[10]发现深冷处理对W-Ti合金中的富Ti相影响不大,但能明显提高W-Ti 合金的致密度和显微硬度。本文介绍W-Ti合金靶材的性能指标、制备方法和应用领域,并提出了W-Ti合金靶材的研究方向。……
