王志明，王 龙，周 措，孙春艳

(青海大学化工学院，青海 西宁 810016)

在众多污染物中，金属离子被认为是最大的污染源之一，因为它们在生态系统中表现出持久性、生物蓄积性和高毒性。尽管某些金属离子在各种生命过程中起着不可替代的作用，但过量存在时，如发电厂、冶金厂等化工企业将含有金属离子的污水过度排放，会对环境和人体造成损害[1-2]。因此，关于有毒和有害金属离子处理及回收的研究引起广泛关注，各种水处理技术迅速发展，包括溶剂萃取、化学沉淀、离子交换、吸附、电化学处理和膜过滤技术等[3-8]。其中吸附法被认为是从低浓度溶液中去除金属离子的有效工艺，其显著优点是成本低、操作简便、可重复利用等[9]，但如何提高吸附剂对金属离子的选择性是摆在研究者面前的首要问题。

离子印迹技术(Ion Imprinting Technique,IIT)的出现为解决日益严重的痕量金属离子污染问题提供了一条高效、可行的途径[10]。作为分子印迹技术的一个重要分支，离子印迹技术具有特异识别性和稳定性等优点，已在吸附领域有所应用[11]。溶胶-凝胶法是涉及有机硅烷水解和共聚的新技术。在溶胶-凝胶法中加入交联剂可制备介孔杂化功能材料[12]。利用溶胶-凝胶法制备的吸附剂具有机械强度高、化学和热稳定性好、比表面积和孔体积大以及吸附量高等优点。将离子印迹技术与溶胶-凝胶法相结合被认为是制备高性能吸附剂的有效途径[13]。其中本体印迹技术通过调节原料的配比，可“一锅法”合成印迹聚合物，制备过程简便，但模板离子易被包埋、不易洗脱，造成印迹活性位点不易暴露[14]。……