（湖南工业大学 理学院，湖南 株洲 412007）

0 引言

已有研究表明，过多的紫外线辐射对人类健康不利，对家具、图书、文物等的收藏有较大影响[1-4]。近年来，紫外屏蔽材料的研究非常活跃，目前紫外屏蔽的手段大致分为两类：一类是反射；另一类是吸收。很多学者对其进行了大量研究，并得到了许多能吸收和反射紫外线的材料，比如TiO2、CeO2、ZnO、纳米Al2O3、纳米FeO 等[5-12]。相对其他材料而言，ZnO在自然界中的储量丰富，价格低廉，无毒无害，激子束缚能高达60 meV，具有很好的化学和热稳定性能，室温下禁带宽约为3.37 eV[13-15]，ZnO薄膜沉积温度低，在紫外光区具有很高的吸收率，在可见光区有较高的透过率，是理想的紫外屏蔽材料，发展潜力巨大。

目前，制备ZnO 薄膜常用的方法主要有溶胶-凝胶法、喷涂热解法、脉冲激光沉积法、分子束外延法、化学气相沉积法、磁控溅射法等[13-25]，其中磁控溅射法制备薄膜具有膜厚均匀可控、薄膜质量好、光电性能佳的特点，且制备工艺简单，可以实现大面积生产，因而被广泛采用。氧化锌薄膜的结晶质量和光电性能与溅射工艺参数，如功率、温度、气压、氧氩比等的设置紧密相关，溅射温度、气压、氧氩比等参数对薄膜光电性能的影响已经得到了学者们的广泛研究[16-25]。本文采用射频磁控溅射法，在石英衬底上沉积ZnO 薄膜，在其他工艺条件不变的情况下，探究溅射功率对薄膜微结构及光学性能的影响。

1 实验

1.1 实验仪器与材料

高真空多靶磁控溅射镀膜机，JCP-350M2 型，北京泰科诺科技有限公司；……