苏一凡，石 倩，林松盛，宋可为，胡 芳，韦春贝，李 洪，代明江

广东省新材料研究所，现代材料表面工程技术国家工程实验室，广东省现代表面工程技术重点实验室，广东 广州 510650

钕铁硼(NdFeB)永磁体是20世纪80年代发展起来的第三代稀土永磁材料，具有高矫顽力、高磁能积、高饱和磁化强度的特点，有着“磁王”之美誉，在新能源、通信、医疗、汽车工业、节能家电等工业领域有着广泛的应用[1-5].然而，由于NdFeB磁性材料的耐腐蚀性较差，影响了其应用领域的进一步拓展.为了克服这个技术瓶颈，提高NdFeB磁性材料的耐腐蚀性能成为了一个热点研究领域[6-8].其中，在NdFeB表面制备防护膜层是提高其耐腐蚀性能的有效途径之一.目前，NdFeB磁性材料表面膜层的主要制备方法有电镀[9-10]、化学镀[11-12]、物理气相沉积(PVD)[13-15]等，其中PVD是一种干法表面处理技术，具有环境污染小和无镀液残留等优点，可以避免因湿法镀膜工艺而使部分镀液残留在NdFeB磁体孔隙中引起防护膜层提前失效的问题.在PVD防护膜层技术中，蒸发镀(Vapor Deposition)具有沉积速率快、生产效率高等显著优点，是NdFeB表面防护处理技术中最有可能部分替代传统电镀技术的方法之一.然而，一般热蒸发镀工艺所制备的膜层存在膜基结合强度差、膜层粗糙及因不够致密而导致耐腐蚀性能不足等缺点.研究表明[16]，在物理气相沉积工艺中施加轰击电压进行离子轰击，可以打断柱状晶生长、溅射掉疏松原子、“夯实”膜层，起到增加膜层致密度、提高膜层耐腐蚀……