偏光全息研究历程与展望
2017-10-23洪一凡臧金亮范凤兰吴安安康果果谭小地
中国光学 2017年5期
关键词:理论
洪一凡,臧金亮,刘 颖,范凤兰,吴安安,邵 龙,康果果*,谭小地
(1.北京理工大学 光电学院 信息光学研究室,北京 100081;2.日本东京大学 生产技术研究所,东京 153-8505)
偏光全息研究历程与展望
洪一凡1,臧金亮1,刘 颖1,范凤兰1,吴安安2,邵 龙1,康果果1*,谭小地1
(1.北京理工大学 光电学院 信息光学研究室,北京 100081;2.日本东京大学 生产技术研究所,东京 153-8505)
全息是目前一项极具前景的科学技术,即通过信号光和参考光的干涉,在小小的全息图上记录丰富的信息。相比于传统全息仅记录光波的相位、振幅信息,偏光全息可以将额外的偏振信息记录于偏振态敏感材料中。本文从偏光全息材料入手,详细介绍了偏光全息生产过程;同时介绍基于琼斯理论和张量理论的偏光全息原理和研究进展;最后描述了偏光全息在全息存储和纳米光学领域的发展前景。
偏光全息;琼斯理论;张量理论;偏振态
1 引 言
全息是一种利用光的干涉原理记录光波干涉条纹,再利用光的衍射,再现记录光波的全部信息的技术[1]。全息术的发展可分为3个阶段:第一阶段是从全息术的首次提出到20世纪50年代末期。该阶段的标志性成果有同轴全息的出现和建立了全息术的基本理论。然而由于光源的限制(多为汞灯),和参考光波与物光波的共轴(±1级衍级不能分开),使得该阶段的全息术并没有获得理想的实验效果。第二阶段开始于20世纪60年代,其标志性成果有:(1)1962年,Upatnieks、Leith发明离轴全息技术。其原理特性解决了孪生像的问题[2];……
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