陈安，胡树国

（中国计量科学研究院，北京 100029）

痕量水分标准装置研究进展＊

陈安，胡树国

（中国计量科学研究院，北京 100029）

介绍痕量水分标准装置的研究进展。目前已有多种成熟的检测高纯气体中痕量水分的仪器，而对于这些检测仪器的校准则需要能稳定发生痕量水分的标准装置。对国际上已有的痕量水分发生标准装置的原理和相关研究进行介绍和总结，并分析了国内相关领域的现状，为我国气体痕量水分标准发生装置的研究提供参考。

痕量水分标准装置；检测；磁悬浮天平

在当今商用气体产业链中，高纯及超高纯气体的应用越来越广泛［1］，部分高纯气体是超大规模集成电路、平面显示器件、化合物半导体器件、太阳能电池、光纤等电子工业生产不可缺少的原材料，被用于薄膜、刻蚀、掺杂、气相沉积、扩散等工艺。随着高新技术产业的快速发展，人们对高纯气体品质的需求越来越高，对高纯气体中微痕量杂质的含量尤为关心，而水是其中一种重要的污染物。以半导体行业为代表，半导体制造业需要使用大量的高纯气体，而气体中的水分含量会直接影响半导体产品的性能与质量，即使是痕量的水污染，也会导致半导体产品的一系列缺陷，一般电子工业用高纯气体的水分含量要求不得超过1 μg/g。此外，制造过程中水分还会加快气体传输系统的腐蚀，还可能与某些含氢酸反应，造成一系列危害。

早在1963年，第一届国际湿度会议便对……