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改变铝溅射材料解决电视机场功放电路中点电位漂移

2017-09-21邱静君宿田

电子与封装 2017年9期
关键词:分析

邱静君,宿田

(无锡华润矽科微电子有限公司,江苏无锡214000)

改变铝溅射材料解决电视机场功放电路中点电位漂移

邱静君,宿田

(无锡华润矽科微电子有限公司,江苏无锡214000)

集成电路芯片对器件参数的均匀性、稳定性要求很高。集成电路制造过程中由工艺异常引起的器件参数不均匀,直接影响着芯片性能和圆片良率。引起器件参数不均匀的原因千变万化,结合产品分析解决问题、保证芯片性能和工艺正常,是设计和产品工程师经常面对的问题。通过一个产品实例,从失效现象、原因分析、实验室分析佐证、设计改进方案到试验结果,介绍了通过改变铝溅射材料减小基区孔接触电阻、改善接触电阻均匀性,解决电视机场功放电路由于工艺问题导致的基区孔接触电阻不均匀、引起中点电位漂移的方法。

铝溅射;铝硅铜;铝铜;基区接触电阻;硅空洞;铝欠缺;中点电位;均匀性

1 引言

某个电视机场功放电路在设计试制初期,存在中点电位漂移的问题,中测良率不稳定。正常圆片中测良率达到90%以上,异常圆片中测良率分布在50%~60%附近甚至更低。中测失效现象主要表现为中点电位超规范(即中点电位漂移)。在试制过程中,通过对中点电位超规范的原因进行分析,找出失效机理并通过工艺优化解决了中点电位漂移的问题。

2 中点电位漂移现象描述和分析以及改进试验

2.1 现象描述

电视机场功放电路的中点电位,在正负电源应用时,理论中点电位应为0 V。……

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