占空比对脉冲电镀铁镍合金组织及电磁屏蔽性能的影响

2017-03-13*

电镀与涂饰 2017年3期

关键词：磁场

（北京有色金属研究总院，北京 100088）

占空比对脉冲电镀铁镍合金组织及电磁屏蔽性能的影响

刘坤*，马书旺，杨剑，梁秋实，王健

（北京有色金属研究总院，北京 100088）

采用脉冲电镀法在2024铝合金基体上制备Fe–Ni合金薄膜，研究了脉冲占空比对镀层组织形貌和晶体结构的影响。结果表明，所制FeNi80合金镀层为典型的面心立方晶体结构，具有(111)和(200)晶面择优取向。提高脉冲占空比，镀层粗糙度增大。脉冲占空比为30%时所制备的200 μm厚FeNi80合金镀层在10 ～ 100 kHz低频磁场下的屏蔽效能达到36 ～ 55 dB。

铁–镍合金；脉冲电沉积；占空比；微观结构；电磁屏蔽

First-author’s address: General Research Institute for Nonferrous Metals, Beijing 100088, China

Fe–Ni合金是重要的低频软磁材料，在弱磁场中具有较高的磁导率和低矫顽力，被广泛应用于电信、计算机、控制系统等领域。电沉积作为重要的表面涂覆手段，具有可对复杂形状元器件实现全表面覆盖的独特优势，保证磁屏蔽的连续性，从而提高屏蔽效果。采用电沉积方法制备的Fe–Ni合金镀层具有优良的磁学、电学和力学性能，是重要的功能磁性材料[1-3]。

目前，针对电沉积Fe–Ni合金镀层的制备已有报道。T. E. Buchheit等人分别采用脉冲和直流电镀法制备80Ni–20Fe合金镀层，并主要研究了镀层的晶粒结构对力学性能的影响[4]。Penny Tsay等人通过换向脉冲电镀的方法制备Ni–Fe合金，分析了Ni–Fe合金镀层的物理性能[5]。本文采用脉冲电沉积的方法制备Fe–Ni合金，主要研究脉冲电镀参数对Ni–Fe合金镀层组织形貌和微观结构的影响，探索Fe–Ni合金镀层在10 ～ 100 kHz低频磁场中的电磁屏蔽效能。