还原氧化石墨烯/Au复合微电极阵列的制备及光电特性
2016-11-02季津海闻雪梅毕宴钢
高等学校化学学报 2016年10期
季津海, 闻雪梅, 陈 洋, 毕宴钢
(吉林大学电子科学与工程学院, 长春 130021)
还原氧化石墨烯/Au复合微电极阵列的制备及光电特性
季津海, 闻雪梅, 陈洋, 毕宴钢
(吉林大学电子科学与工程学院, 长春 130021)
利用双光束干涉-无掩模光刻技术制备了周期性氧化石墨烯微结构阵列, 利用肼蒸气对氧化石墨烯脱氧还原, 然后蒸镀超薄Au薄膜制备了还原氧化石墨烯/Au复合微电极阵列(R-GO/Au). 对复合电极在可见光波段的透过率和表面电阻进行了表征, 结果表明, R-GO/Au复合微电极阵列具有良好的光电特性. 将R-GO/Au复合微电极阵列引入到有机太阳电池中作为半透明阳极, 器件的光电转化效率可达3.43%.
还原氧化石墨烯/Au复合电极; 微电极阵列; 双光束干涉-无掩模光刻技术; 肼蒸气还原
基于微电极阵列的微器件在高分辨微显示、 3D显示、 传感器及生物医学等领域有着非常广泛的应用, 制备周期性透明微电极阵列是其关键技术之一[1~3]. 基于掩膜版的制备工艺由于针对不同的微电极需要制作大量的掩膜版, 成本高, 灵活性差[4,5]. 基于刻蚀技术的制备工艺, 例如干法刻蚀和湿法刻蚀, 虽然已实现微电极的制备, 但是加工设备昂贵, 分辨率通常较低, 并且常用的金属电极材料及铟锡氧化物(ITO)等不易被有效刻蚀[6~10]. 近年来新发展起来的飞秒激光直写技术(FsLDW)可以实现高分辨率图形的微电极阵列的加工, 但是难以实现大面积微电极阵列的制备[11~13]. 因此, 寻找一种具有高分辨率、 工艺简单、 可实现……
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