闵鹏飞，仲亚男，卞　达，倪自峰，赵永武

(江南大学 机械工程学院，江苏 无锡 214122)



亚硝酸钠对7003铝合金化学机械抛光作用的影响研究*

闵鹏飞，仲亚男，卞达，倪自峰，赵永武

(江南大学 机械工程学院，江苏 无锡 214122)

在碱性抛光液条件下，研究了氧化型缓蚀剂亚硝酸钠(NaNO2)对7003铝合金化学机械抛光(CMP)粗抛作用的影响机制。通过静态腐蚀试验及电化学实验分析了NaNO2对铝合金的缓蚀效果，并在此基础上研究了NaNO2的含量及pH值对铝合金CMP过程的作用机制，并对抛光后的材料去除率和表面粗糙度进行了分析。研究结果表明，在以过氧化氢为氧化剂的碱性抛光液条件下，当NaNO2的含量为0.5%时，能够有效促进铝合金表面氧化膜的形成，抑制铝合金在抛光过程中腐蚀速度，其缓蚀率为87.41%；NaNO2的加入，虽然降低了材料去除率，但提高了铝合金抛光后的表面质量。同时，发现抛光液的pH值对材料去除率影响较大，分析得，当pH=10时，抛光后的材料去除率最大，同时能够获得良好的表面形貌。

铝合金；化学机械抛光；缓蚀剂；表面形貌

0　引言

随着科学技术的不断发展，化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing)作为目前最好的全局平坦化技术在集成电路制造中得到广泛应用[1-3]。7003铝合金因含Mg、Zn等元素，具有较高的强度及硬度，广泛应用于电子、机械、航天航空等领域。同时随着人们对零部件表面精度要求越来越高，传统的加工工艺以无法满足精加工生产要求，为了得到纳米级超高精密加工表面，将化学机械抛光技术应用到铝合金表面加工具有实际意义[4]。……