浅谈等离子体浸没离子注入技术及其应用
2014-09-01黄琼俭周永福汪小利
中小企业管理与科技·下旬刊 2014年8期
黄琼俭 周永福 汪小利
摘要:等离子浸没离子注入技术是一种新型的离子注入技术,有着自己独特的优点,目前已成为热点研究领域,其主要应用于对材料表面处理以提高其磨损性能。本文简要阐述了等离子体浸没离子注入技术,并就其在表面改性领域中的广泛应用进行了分析与探究。
关键词:等离子体 浸没与注入 应用 技术
1 等离子体浸没离子注入技术
等离子体俗称物质存在的第四态,是指在一定强度的电场作用下,气体中的原子受到激发,内部带点粒子发生加速运动相互碰撞后进行能量传递,最后电离放电而形成的一种物质。等离子体在常规条件下是不可能产生的,必须在特殊条件下才能形成。而等离子体注入,就是等离子体的一种应用领域,也是目前运用比较多的一种表面改性处理技术,是通过向基体注入外来离子而改变基体材料表面组成成分以及结构,达到改变基体材料各种性能的目的。
等离子体浸没离子注入英文简称为PIII,其设备由等离子体源、脉冲电源、真空室以及真空泵四大部门组成。将样品置入实验真空室内,并安装在特定需要的位置,当真空抽至所需要求时,将工作气体通入真空室内,通过射频耦合等多种方式将通入的气体电离成等离子体。由于等离子体在真空室内处于弥漫状态,因此可以达到样品完全浸没气体的目的。向样品表面施加负脉冲偏压,等离子体在负偏压的电场作用下,电子向真空室壁运动,正离子向样品表面停留,便形成了一层厚度较厚的正离子鞘层。……
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