董 磊

（中国电子科技集团公司第四十七研究所，沈阳110032）

4700S电子束曝光机图形曝光模式及其应用

董 磊

（中国电子科技集团公司第四十七研究所，沈阳110032）

通过对MEBES 4700S电子束曝光机不同图形曝光模式特性的比较和分析，得到其在160MHz和320MHz曝光像素频率和不同设计栅格尺寸下的适用范围，以利用MEBES 4700S生产具有期望精度值图形的掩模版，达到最佳的制版效果。

MEBES 4700S；电子束曝光机；图形曝光模式

1 引 言

MEBES 4700S是一套由美国ETEC公司生产的，具有热场致发射（TFE）镜筒和320MHz曝光像素频率的高精度、高分辨率和高产量的电子束曝光系统。它可以用于微电子领域的掩模版制造和硅片直写。

由于MEBES 4700S具有多种不同的图形曝光模式，在利用其制作掩模版的时候，需要根据每一种图形曝光模式的特点灵活选用其中的一种或几种组合来达到最佳的制版效果。通过对不同图形曝光模式特性的比较和分析得到了其在不同设计栅格尺寸和曝光像素频率下的适用范围，在实际生产中，以此作为指导可以更好地发挥每种图形曝光模式的优势，生产具有期望精度值图形的掩模版。

2 MEBES4700S系统概述

2.1 高精度

MEBES 4700S具有的动态校正技术可以补偿工作台位置、写扫描线性度、光栅畸变和衬底平整度等几个主要系统误差源的误差。提高精度的动态校正模块包括：

·自动写扫描校正——通过使用电荷放大技术，优化了扫描带的拼接

·动态栅格匹配——提高了版对栅格的对准和成套版间的套准精度

·高度检测和校……